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✅ AR+AF Nano-Coating for reflection reduction
Vergütung: Doppelseitige AR/AF Mehrfachbeschichtung
Long exposures: technology and creative use
Unterbringung
✅ Extra flat design for space-saving transport
Fotografie Workshop – 3 Tage Intensiv-Workshop in der Sächsischen Schweiz 16.–18.10.2026 LC PRO Filterhalter Tasche ✅ AR+AF Nano-Coating for reflectionDatum: 16 18. 10. 2026 Art: Landschaftsfotografie intensiv Workshop Ort: Schsische Schweiz Locations: Gorischsstein, Lilienstein, Lochmhle, und vieles mehr Coach: Riko Best Voraussetzungen: Manuelle Kamera, Stativ Themen: Motive finden, Langzeitbelichtung, Sonnenaufgang, Sonnenuntergang, Wasserflle, ND Filter, CPL Filter, GND Filter, Bildbearbeitung Teilnehmer: max. 12 (Mindestteilnehmerzahl: 6 Personen) Erfahrungsstufe: Einsteiger & Fortgeschrittene
